合作伙伴：半導(dǎo)體企業(yè)

儀器類型：電感耦合等離子體質(zhì)譜儀

品牌：安捷倫

型號(hào)：ICP-MS-MS 8900

2024年8月30日，國(guó)內(nèi)有名半導(dǎo)體企業(yè)購(gòu)買我司的安捷倫電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 ICP-MS-MS 8900， 用于水基體，有機(jī)試劑，高硅，高氟樣品超痕量元素分析。工程師使用經(jīng)驗(yàn)證過(guò)的氫氣原位質(zhì)量法，氧氣質(zhì)量轉(zhuǎn)移，氨氦，高氦等多種模式解決客戶的應(yīng)用問(wèn)題。

在反應(yīng)池中，氫氣 (H2 ) 和氧氣 (O2 )常被用作反應(yīng)氣。

分析物或干擾物在反應(yīng)池中與某一反應(yīng)氣發(fā)生反應(yīng)，生成一個(gè)新質(zhì)量數(shù)的產(chǎn)物離子，通過(guò)這種質(zhì)量轉(zhuǎn)移或者原位質(zhì)量的方法，避開(kāi)原質(zhì)量數(shù)的干擾。針對(duì)ICP-MS開(kāi)發(fā)的碰撞/反應(yīng)池，能夠通過(guò)化學(xué)反應(yīng)去除特定干擾，解決分析中的難題。

氧氣質(zhì)量轉(zhuǎn)移?是一個(gè)涉及氧氣從氣相傳遞到液相的過(guò)程，這個(gè)過(guò)程既是一個(gè)傳遞過(guò)程，也是一個(gè)物質(zhì)擴(kuò)散過(guò)程。氧氣質(zhì)量轉(zhuǎn)移的效率受到多種因素的影響，包括污水水質(zhì)、水溫、氧的分壓以及曝氣裝置的安裝深度等。

Agilent 8900 ICP-MS/MS 比單四極桿 ICP-MS 提供了更高的靈敏度、更低的背景和更出色的干擾物質(zhì)控制。這使得監(jiān)測(cè)更多數(shù)量的低濃度污染物元素成為可能，包括 Si、P、S 和 Cl 等難以分析的元素，并支持半導(dǎo)體行業(yè)推動(dòng)更小尺寸器件架構(gòu)、更高產(chǎn)量和更高器件性能的發(fā)展。

應(yīng)用場(chǎng)景分析

1.水基體樣品分析: 在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，水基體樣品如超純水(UPW)的質(zhì)量對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量有著至關(guān)重要的影響。ICP-MS-MS 8900 能夠準(zhǔn)確測(cè)量UPW中的超痕量鉀、鈣、鐵、鎳等元素，確保水質(zhì)符合生產(chǎn)要求。

2.有機(jī)試劑樣品分析: 半導(dǎo)體制造過(guò)程中常常需要使用各種有機(jī)試劑。這些試劑中可能含有微量的金屬元素或其他雜質(zhì)，對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生不利影響。ICP-MS-MS 8900能夠檢測(cè)這些有機(jī)試劑中的超痕量元素，確保試劑的純度。

3.高硅樣品分析: 半導(dǎo)體材料如硅片在制造過(guò)程中需要嚴(yán)格控制其表面的金屬元素含量。ICP-MS-MS 8900的高靈敏度和低檢測(cè)限使得其能夠準(zhǔn)確測(cè)量硅片表面的超痕量元素，如磷、鈦等。同時(shí)，其強(qiáng)大的干擾控制能力能夠消除硅基質(zhì)對(duì)分析結(jié)果的干擾。

4.高氟樣品分析: 在某些特定的半導(dǎo)體制造過(guò)程中，可能需要使用含氟的化學(xué)品。ICP-MS-MS 8900能夠檢測(cè)這些高氟樣品中的超痕量元素，確保產(chǎn)品的質(zhì)量和性能不受影響。

綜合應(yīng)用分析，我們給安捷倫電感耦合等離子體質(zhì)譜儀ICP-MS-MS8900 配備了氫氟酸進(jìn)樣能力(通過(guò)耐腐蝕部件實(shí)現(xiàn))、有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)和水基體進(jìn)樣系統(tǒng)，以滿足半導(dǎo)體行業(yè)及其他領(lǐng)域?qū)?fù)雜樣品中超痕量元素分析的需求。

可見(jiàn)譜標(biāo)科技不僅僅只銷售儀器，整個(gè)檢測(cè)技術(shù)，方案應(yīng)用，方法開(kāi)發(fā)等全面服務(wù)一 一提供。