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在發(fā)展中求生存,不斷完善,以良好信譽(yù)和科學(xué)的管理促進(jìn)企業(yè)迅速發(fā)展首頁-譜標(biāo)服務(wù)-串聯(lián)四極桿ICP-MS可實(shí)現(xiàn)對低濃度汞元素測定
許多汞 (Hg) 化合物有毒,會(huì)引起皮膚刺激、頭痛、震顫、神經(jīng)系統(tǒng)損傷和腎衰竭等不適或中毒癥狀。由于汞化合物極易透過皮膚被人體吸收,因此化妝品中 Hg 化合物的使用受到嚴(yán)格控制。例如,除非在特殊條件下(找不到其它可替代的安全有效防腐劑),否則美國食品藥品監(jiān)督管理局 (FDA) 不允許在化妝品里使用汞。
然而,Hg 化合物在護(hù)膚霜、肥皂和乳液中使用,可使其具有“抗衰老”或“美白”功效。某些不法商販看中了其中的商機(jī),會(huì)在化妝品中非法添加 Hg 化合物,以求產(chǎn)品的“顯著”功效,從中獲利。
可使用 ICP-MS 測定低濃度的汞元素,但存在一定的困難。
汞具有較高的第一電離勢 (10.44 eV),因此在等離子體中電離效果相對較差,從而導(dǎo)致靈敏度較低。此外,汞有七種天然存在的同位素,每一種同位素的豐度 (%) 都相對較低,這進(jìn)一步降低了靈敏度。此外,一些化妝品中還含有大量鎢 (W),這導(dǎo)致汞的所有同位素都受到 WO+ 和 WOH+ 的多原子干擾,使得汞的測定更加困難。配有碰撞反應(yīng)池 (CRC) 的傳統(tǒng)單四極桿 ICP-MS 并不能充分去除 WO+ 和 WOH+干擾,無法對汞進(jìn)行準(zhǔn)確的痕量測定。
在研究中發(fā)現(xiàn),串聯(lián)四極桿 ICP-MS (ICP-MS/MS) 在 MS/MS 模式、反應(yīng)池氣體為 O2 下具有出色的干擾去除能力,可成功去除 WO+ 和 WOH+ 對五種主要汞同位素的多原子干擾,從而對汞進(jìn)行原位質(zhì)量檢測。
- 采用反應(yīng)池氣體為 O2 的 MS/MS 原位質(zhì)量方法,在鎢存在條件下的汞痕量測量準(zhǔn)確一致;
- 與傳統(tǒng)的單四極桿 ICP-MS 相比,ICP-MS/MS 可將干擾降低至少兩個(gè)數(shù)量級;
- 8900 ICP-MS/MS 方法可輕易滿足富含鎢的化妝品樣品中對痕量汞分析的要求。
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